无机纳米粉体湿法分散机

电子浆料等新型材料，具有环保、高效和节能等特点，已经 逐步取代传统电路器材(如电阻丝、电热管等)，应用于电子产品中。例如，等离子显示器的 制造中，用于形成介质、障壁、电极的材料通常是以浆料或干膜的形式使用，浆料或干膜中 均含有均值粒径2 4um的无机超细粉末，例如低玻粉等，另外还包含有机组分，例如有机 溶剂、高分子树脂、助剂等。 目前，制造超细粉末的方法有球(棒)磨、气流粉碎、珠磨，研磨分散机等。其中，由于球(棒) 磨加工效率高，所以是zui为常用的粉碎手段。但是，在进行干法球磨时，随着粉体粒径的减 小，粉体越发容易团聚结块，在容器内未充分分散，使得无法进一步粉碎。为此，常引入专 门的球磨介质(例如水、乙醇等)进行湿法球磨，以便粉体能够保持充分分散和有效粉碎。 这种方法在很多情况下会对终产品产生不利影响，因为引入的额外球磨介质会与粉体表 面发生键合作用，

而继后的介质去除与干燥工序很难wan全消除该键合作用对粉体表面的影 响，从而zui终会不利地影响超细粉体与浆料中有机成分之间的相容性，造成例如粘度变化、 粉体在载体中分散不良等。

球磨机/砂磨机：锆珠易损，引入杂质，更换维修成本高；

国内胶体磨/研磨机/分散机：转速普遍2930rpm，不超过3000rpm，作用力弱，粉碎研磨细度不够，浆料稳定性差；

德国IKN研磨分散机（改进型胶体磨/改进型分散机）：转速范围9000rpm-14000rpm-21000rpm，剪切力，研磨力，分散力更强，粒径更小，分布范围更窄，浆料稳定性更好。产生均匀的尺寸减小率并产生窄的，一致的和可重复的粒度分布。

将无机粉末与使用的有机溶剂或助剂的至少一部分混合，在研磨分散机中高速研磨。 克服了以往干法球磨或棒磨中粉体易团聚结块的缺点，避免了湿法 球磨或棒磨中水、乙醇等常用介质对粉体表面性能的影响，并减少了球磨或棒磨后材料干 燥工序以及调配浆料后的辊轧分散工序。

湿法分散机，德国研磨分散机可以很好的解决颗粒或粉体浆料易团聚、分散细化不均匀等问题，其已广泛应用于石墨烯、碳纳米管、活性炭、纳米粉体、高分子材料、石墨复合材料等多种新材料的制备应用上。CMSD2000系列的胶体磨（锥体磨）分散头的组合,可以先将物料（配入溶剂和分散剂）研磨细化,然后再经过分散头,进行分散。这样既可以细化又可以避免团聚的现象,为新材料行业提供了强有力的设备力量。

.CMSD2000系列研磨分散机的结构：研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高ke技产品。

Ikn研磨分散机设备结构：
第yi级由具有精细度递升的三层锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

设备等级：化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级

电机形式：普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、气动马达

电源选择： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ

电机选配件： PTC 热保护、降噪型

均质机材质：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti

均质机选配：储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车

均质机表面处理：抛光、耐磨处理

进出口联结形式：法兰、螺口、夹箍

均质机选配容器：本设备适合于ge种不同大小的容器.

CMSD 2000系列研磨分散机设备选型表

表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到zui大允许量的10%

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