纳米氧化锆研磨分散机

纳米氧化锆研磨分散机，纳米氧化锆分散机，纳米分散机，纳米粉末分散机是是指将不溶固体颗粒分散到液体中在液体介质中的分散体系。在分散过程中，往往需要减小固体颗粒，这就是湿磨或高剪切分散。用IKN高剪切分散机输入大量能量，可实现我们的目的。

纳米氧化锆研磨分散机

更多详情请致电上海依肯销售工程师 徐工 1-8-2-0-1-8-9-1-1-8-3，公司设有专门实验室可以免费为客户提供设备购买前的验证测试。

是指将不溶固体颗粒分散到液体中在液体介质中的分散体系。在分散过程中，往往需要减小固体颗粒，这就是湿磨或高剪切分散。用IKN高剪切分散机输入大量能量，可实现我们的目的。

为了实现互不相溶相的分散，必须强力粉碎并混合其粒子。粉碎意味着必须克服表面张力的阻力来形成新表面。分散过程传递所需的能量，并保证两相均质混合。分散的*稳定性会受到确切粒度分布及乳化剂和稳定剂使用的影响。

IKN提供转子-定子机械装置来确保的分散效果、良好的清洁度和较长运行寿命。凭借这几项特点和易维护设计，转子-定子机械装置实现满意的成本/售价比。

纳米氧化锆用于制金属锆和锆化合物、制耐火砖和坩锅、高频陶瓷、研磨材料、陶瓷颜料，锆酸盐，压电陶瓷制品、日用陶瓷、耐火材料及贵重金属熔炼用的锆砖、锆管、坩埚等。也用于生产钢及有色金属、光学玻璃和二氧化锆纤维。还用于陶瓷颜料、静电涂料及烤漆。用于环氧树脂中可增加耐热盐水的腐蚀。

纳米粉体的团聚是指原生的纳米粉体颗粒在制备、分离、处理及存放过程中相互连接、由多个颗粒形成较大的颗粒团簇的现象。由于团聚颗粒粒度小，表面原子比例大，比表面积大，表面能大，处于能量不稳定状态，因而细微的颗粒都趋向于聚集在一起，很容易团聚，形成团聚状的二次颗粒，乃至三次颗粒，使粒子粒径变大，在每个颗粒内部有细小孔隙。

纳米颗粒的团聚一般分为两种：软团聚和硬团聚。对于软团聚机理，人们的看法比较一致，即，软团聚是由纳米粉体表面分子或原子之间的范德华力和静电引力所致，由于作用力较弱，可以通过一些化学作用或施加机械能的方式来消除。

电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。

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由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。
*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出最终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

CMD2000系列设备选型表：

1、表中上限处理量是指介质为“水"的测定数据。
2、处理量取决于物料的粘度，稠度和最终产品的要求。
3、如高温，高压，易燃易爆，腐蚀性等工况，必须提供准确的参数，以便选型和定制。
4、本表的数据因技术改动，定制而不符，正确的参数以提供的实物为准。
5、本系列机型具有短程送料能力，无自吸功能，须选用高位进料；物料粘度或固含量高导致不能正常进料和输送时，须选用压力或输送泵进料或送料，输送泵的压力和流量与被选机型相匹配。

纳米氧化锆研磨分散机，纳米氧化锆分散机，纳米分散机，纳米粉末分散机还可以运用于纳米氧化铝，纳米氧化锌，纳米氧化铈，纳米氧化铁，纳米氧化铋，纳料ATO合金等产品。纳米金属粉体、碳纳米管、高纯Al2O3、高纯纳米TiO2系列粉体、超活性纳米TiO2催化剂、纳米TiO2液体、纳米TiO2银抗菌剂、纳米高纯ZrO2、超细高纯ZrO2、纳米涂层材料、纳米载银抗菌粉、纳米SiO2、纳米ZnO、光触媒、纳米三防整理剂等系列粉体、液体、制剂产品。