MP-2D双盘双控金相试样磨抛机属于定速磨抛设备,试验速度为300r/min和600r/min,设备操作方便,可供双人同时操作,或单人单盘操作。
技术参数
工作电压: 380V 50HZ
工作方式: 双盘双控
磨抛盘直径: Φ203mm(可订制Φ250mm)
转速: 300转速/分钟,600转速/分钟(两级定速)
砂纸直径: Φ200mm(可订制Φ250mm)
电动机: Yc712,120W/250W
外形尺寸: 700x600x270mm
重量: 50KG
产品简介
MP-2D型金相试样磨抛机为双速双驱动台式机,适用于对金相试样进行粗磨、精磨和抛光操作。 本机具有300转速/分钟跟600转速/分钟两种转速,从而使本机具有更加广泛的应用性,是用户用来制作金相试样的设备。
本机带有冷却装置,可以在研磨抛光时对试样进行冷却,以防止因试样过热而破坏金相组织。该机使用方便、安全可靠,是工厂、 科研単位以及大专院校实验室的理制样设备。
二氧化硅悬浮研磨抛光液
当某些较软的、有韧性的试样,需要经过最终抛光才能达到理想效果时,应选用氧化物悬浮抛光液。
名称 | 说 明 | 粒度 | 包装(瓶) |
二氧化硅悬浮研磨抛光液 | 机械/化学抛光,液态氧化硅悬浮液,PH9.5用于高纯度金属及合金、矿物、陶瓷、聚合物的最终抛光。 用法:直接使用用于各种黑色和有色金属、陶瓷、复合材料以及宝石、仪表、光学玻璃等产品的高光洁度表面的研磨及抛光。 | 0.04μm | 500ml |
机械/化学抛光,液态氧化硅悬浮液,PH10用于所有材料快速最终抛光。 用法:直接使用用于各种黑色和有色金属、陶瓷、复合材料以及宝石、仪表、光学玻璃等产品的高光洁度表面的研磨及抛光。用于各种黑色和有色金属、陶瓷、复合材料以及宝石、仪表、光学玻璃等产品的高光洁度表面的研磨及抛光。 | 0.02μm | 500ml | |
机械/化学抛光,胶状硅悬浮液,PH10 用于高精要求产品的最终抛光。 用法:使用时按1:3加水稀释或水性润滑液 | 0.04μm | 500ml | |
0.02μm | 500ml |